技术编号:5015408
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,特别是涉及在塑料容器上形成化学蒸镀膜时,通过使等离子体均匀且高效率地作用于容器,能够在容器上以较短的处理时间形成均匀的薄膜层的。背景技术 化学蒸镀方法(CVD)是利用在常温下不起反应的处理用气体,利用高温气氛中的气相生长,在处理对象的表面上膜状析出反应生成物的技术,广泛使用于半导体的制造、金属和陶瓷的表面的重整等。最近,在CVD中,低压等离子体CVD在塑料容器的表面重整、特别是在提高气体阻挡性能上也正得到广泛应用。等离子体CVD是使用等离子体进...
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