技术编号:5023479
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及废气的处理(洗涤),更具体地说,涉及例如在半导体工业中的卤素或含卤素废气的处理。背景技术 从废气中去除卤素已经广泛应用。近些年来,氟在某些半导体生产过程中的应用或产生已经逐渐普遍。然而,作为一种强氧化剂并具有1ppm的阈限值(TLV),氟是一种剧毒物质。用环境温度的水洗涤氟—主要生成氟化氢(HF)—的尝试通常不成功,因为氟与水的反应速度相对较低并且通常导致湿式洗涤器的高排放速度。为提高湿式洗涤工艺的效率已经进行了各种尝试,例如洗涤器中氢氧化钠(N...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。