技术编号:5023627
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体排放气体处理装置,该半导体排放气体处理装 置用来对从半导体制造装置排出的对人体或环境有害的半导体排放气 体进行热氧化分解而使其无害化。背景技术半导体制造装置中,把各种氟化物(fluorine compound )气体(gas ) 用作清洗气体(cleaning gas )或蚀刻气体(etching gas )等。这样的 氟化物被称作"PFCs(全氟化合物(perfluoro-compounds ))",作为其 代表,可以列举出全氟化碳(pe...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。