技术编号：5026811
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种外延尾气处理器快速维护的装置。 背景技术硅外延工艺是通过化学气相沉积的方法在硅抛光片上沉积一层单晶硅。生长 单晶的硅源通常利用硅烷的分解、或者氢气还原硅氯烷而获得。外延工艺中需要 大量的HCL，三氯硅烷(TCS) ， 二氯硅烷(DCS) , BA， PH,， FL等特殊气体，其 中DCS, TCS, B2H6， PHa都为剧毒气体，需要避免直接排入空气中，这些气体会影 响厂房周边的人生和环境安全，尾气处理器是外延工艺过程中必须的尾气处理装...
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