技术编号:5028396
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及分解处理包含对人体有害的气体、地球气候变暖气体、 臭氧层破坏气体的气体,特别是从半导体、液晶等的制造过程排出的 气体的装置。背景技术现在,作为制造或处理物质的工业过程,开发、实施多种多样的 工业过程,从这样的多种多样的工业过程排出的气体(以下称"处理对 象气体")的种类也非常多。为此,相应于从工业过程排出的处理对象气体的种类,分别使用 各种气体处理方法和气体处理装置。例如,以半导体制造过程的一个过程为例,使用硅烷(SiH4)、氯 气、PFC (全...
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