基于飞秒激光在硅表面制备功能微纳米材料的制备装置和方法技术资料下载

技术编号:5265096

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本发明涉及一种基于飞秒激光硅表面功能微纳米材料制备装置和方法,属于硅基半导体光电材料,应用领域包括太阳能电池、探测器、场致发射器等光电子行业。背景技术目前价格廉价的硅材料广泛地用于半导体微电子的基质,从电脑芯片到光探测仪,硅材料开拓了许多商业应用。但是由于硅材料本身禁带宽度(1.07eV)的限制,从根本上限制了其对红外(> 1. Iym)波段吸收和光电转化的能力。1997年,哈佛大学Mazur 教授研究组在飞秒激光(IOOfs)与物质相互作用研究的过...
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