技术编号：5265390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种硅基微三维结构的制作方法，并具体涉及利用激光作用、化学作用配合图形掩膜来进行的硅基微三维结构的制作及对应的的加工装置。背景技术由于硅基材料具有良好的电子和机械特性，因此在集成电路、微传感器、微执行器等微机电系统中得到广泛应用。硅基材料不易于加工，典型的硅基微三维结构的加工方法有湿法刻蚀和干法刻蚀两种。湿法腐蚀即用化学试剂溶液对硅进行化学或电化学腐蚀；干法腐蚀是指在高真空条件下，用高能离子或反应气体对硅进行轰击腐蚀，如等离子体和反应性离子等刻蚀...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。