技术编号：5265756
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开内容涉及形成石墨烯的方法，尤其涉及。背景技术石墨烯(G)是ニ维原子碳片，其具有非常吸引人的物理、光学和机械特性，包括高电荷载流子迁移率、创纪录的热导率和刚度。目前，可扩大規模的石墨烯合成方法主要包括由基于溶液的石墨氧化物介导的途径和化学气相沉积(CVD)。 由石墨氧化物形成石墨稀的方法广生晶体质量不良和缺陷密度闻的石墨稀样品。由这些方法制备的膜需要高温退火エ艺来将石墨烯从绝缘体转化为导体。CVD方法适用于制备大面积薄膜，但是禁受不住基于溶液的加工。石...
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