技术编号：5266250
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种石墨烯光学光刻器件制备方法，特别涉及一种在石墨烯上用光学光刻的方法制作器件，通过化学处理控制石墨烯器件性能的方法。背景技术石墨烯是纳米科研中的一个热点，尽管在实验室中石墨烯已经被拿来制备成各种各样的电学、光学器件，但这些器件的制备方法主要基于电子束曝光的图形化技术，虽然在实验室中能得到很好的器件性能，但电子束曝光技术成本高昂，时间效率低，不适合于大规模生产。在目前的集成电路工业中，光学光刻是最普遍使用的非常成熟的图形化技术，光学光刻技术的发展...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。