半导体器件的制造方法技术资料下载

技术编号:5266759

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本发明涉及一种在一个基板上集成了振子等机械要素部件、传感器、致动器、电子电路等的MEMS ( Micro Electric Mechanical System 微机电系统)器件等。背景技术作为以往的,有以下方法(例如,参考专利 文献l)在除去成膜于振子周围的牺牲膜之后,利用CVD( Chemical Vapor Deposition化学气相生长法)来形成氧化膜,由此密封该振子 的上部。上述振子为配置在基板上的构造体(机械要素部件)。专利文献l美国专利第51...
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