技术编号：5267350
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种机械装置，具体涉及一种步进式微区压印系统，用 于制作大幅面微纳米结构和器件。背景技术自20世纪60年代以来，集成电路的发展日新月异，单个芯片中集成的 晶体管数目每18个月翻一番。随着电路中器件尺寸的不断变小，传统的光 学光刻技术将接近其物理极限。非光学光刻技术，以电子束/离子束光刻和X 射线光刻为代表，其优点是分辨率极高、无需掩模，理论上极限分辨率可以 小于一个纳米，然而其设备成本及其昂贵，且不适合在大幅面基底上的加工 微纳米结构，因此电...
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