技术编号：5268768
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在一个实施例中，一种形成MEMS装置的方法包括提供基体；在基体层之上形成牺牲层；在牺牲层上形成硅基工作部分；从牺牲层释放所述硅基工作部分，使得工作部分包括至少一个暴露外表面；在硅基工作部分的所述至少一个暴露外表面上形成第一层硅化物形成金属；以及利用第一层硅化物形成金属形成第一硅化物层。专利说明被涂覆的电容传感器[0001]本发明涉及微机加工电容传感器以及制作这种装置的方法。背景技术[0002]表面微机加工用于制作许多微机电系统(MEMS)装置。通过使用表面...
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