一种基于mems的惯性传感器生产及晶圆级封装工艺的制作方法技术资料下载

技术编号:5270155

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本发明公开了一种基于MEMS的惯性传感器生产及晶圆级封装工艺,其步骤如下1)工程化的绝缘硅(E-SOI)形成;2)在MEMS晶圆上面加工;3)在标准ASIC带工厂生产ASIC晶圆;4)MEMS晶圆和ASIC晶圆金属共熔键合;5)晶圆级芯片规模封装(WLCSP)。本发明做到ASIC芯片面积与MEMS芯片面积完全相同,充分利用MEMS芯片以及ASIC芯片的有效面积,为MEMS和ASIC芯片设计提供最有效的空间。晶圆级芯片规模封装省掉了芯片后续的封装工序。直接通...
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