技术编号：5270599
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种。该方法首先在曲面上蒸镀一层金属，然后在金属上通过转移的方法压印图案，通过反应离子刻蚀的方法刻去残余层后，以压印胶为掩膜对金属进行刻蚀至基底，再用反应离子刻蚀除去金属图案上层的压印胶，得到金属图案。本发明简单易行，既可以在平面上替代举离工艺制备金属图案，比之常用的举离工艺更不易破坏图形的完整性并减少缺陷的发生；又可以在曲面上制备制备金属图案，而在曲面上制备图案是举离工艺无法实现的。本发明在制造布拉格光纤光栅、折/衍混合光学元件、纳机电系统等...
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