技术编号：5270705
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，属于微纳制造。其首先在衬底上制备氧化石墨烯薄膜，然后在氧化石墨烯薄膜上制作提供加工气氛的微腔，最后在NH3条件下，利用搭建的激光微纳加工系统对氧化石墨烯进行激光直写加工，获得还原并氮掺杂的氧化石墨烯微结构。本发明结合激光加工高精度、任意成型等特点，根据软件编辑可设计并获得任意形状的氮掺杂的石墨烯微结构，实现器件的任意集成，并且调节加工氛围、激光加工功率、曝光时间、加工步长可调节还原程度和掺杂浓度，最高掺杂浓度可达10.3%。氮原子的种类（包括石墨化、吡啶...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。