技术编号：5271604
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于纳米印制光刻(nanoimprint lithography)的衬底，该衬底包括在其一个表面上的至少一个第一涂层和一个第二涂层。本发明还涉及与带涂层衬底上纳米尺度结构的光刻相关的一种工艺。本发明适于半导体材料如硅、磷化铟或砷化镓上的纳米印制，以用于半导体元件的制备，本发明还可用于其他较硬材料上的纳米印制，以用于如生物传感器，所述的较硬材料例如为陶瓷材料、金属或具有较高玻璃转变温度的聚合物。背景技术 微电子学的发展趋势是朝着更小的尺寸发展。...
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