技术编号：5271677
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体纳米材料制备领域，尤其涉及一种核壳Si/Fe203纳米线阵列的制备方法。背景技术Si具有太能光谱吸收范围广、电学性质易调、价格低廉等优点，在光伏、微电子、光催化等领域具有广泛的应用。一维Si纳米结构由于其比表面积大、减反射性能好、光生载流子收集能力好等优点，在光伏电池、光电化学池等太阳能转化领域表现出优异的性能(Nature materials, 2011,10, 539.)。用于光催化领域，Si的最大的局限在于其在溶液中的光腐蚀，即Si表...
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