技术编号：5271933
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米压印模具、形成纳米图案的方法和通过形成纳米图案的方法获得的树脂模制品。背景技术 以令人满意的精确度和大规模生产率实现微型品生产的唯一方法长期被认为是光刻法。然而，由于光刻法使用扩散(propagated)光，其受衍射极限影响。例如，在具有发射g-线(436纳米)或i-线(365纳米)的光源的曝光装置中，最大分辨力为0.3微米至0.5微米。为了提高分辨力，必须使曝光光源的波长更短。为此，为了实现LSIs或类似物中更高的密度，已经对使用KrF(2...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。