技术编号：5272312
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及多晶硅材料的提纯方法，尤其是涉及一种采用熔盐电解法去除硅材料中硼和磷的方法。背景技术熔盐电解法是制备低成本高纯硅的一种新技术。目前的研究主要集中在以下几个方面(I)SiO2直接熔盐电解。以SiO2为硅源直接熔盐电解制备太阳级多晶硅时，电解质的主要成分是氟化物或氯化物体系，以及溶解在电解质中SiO2或硅酸盐。SiO2直接熔盐电解温度高、能耗高、并且难以获得6N太阳级多晶硅。(2)氟硅酸盐直接熔盐电解制备太阳级多晶硅。以氟硅酸盐为硅源直接熔盐电解制备...
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