技术编号:5272444
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及卤化或拟卤化的单体吩嗪鎓化合物、其制备方法、电解沉积铜沉积物用的包含所述化合物的酸浴、和使用所述酸浴电解沉积铜沉积物的方法。所述的卤化或拟卤化的单体吩嗪鎓化合物可用作铜电镀浴中的添加剂,以更特定地形成如镜面-样光亮的平整铜沉积物,从而产生装饰表面。此外,所述化合物可用作铜电镀浴中的添加剂以选择性并彻底地用铜填充印刷电路板中的盲微通道和半导体晶片上的沟渠和通道。所述化合物还可用作铜电镀浴中的添加剂,用于在集成电路的制造过程中将铜沉积于具有凹槽的半导...
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