技术编号:5272904
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种变间距电镀槽套件,尤其涉及一种可调节靶材架与样品架之间距离的电镀槽。背景技术目前的电镀槽在半导体行业中广泛被工程师应用,但是没有可以准确知道靶材和样品之间距离的电镀槽,导致不能对样品的电镀获取更准确的信息,无法获取更精确的电锻结果。实用新型内容 件可调节靶材架与样品架之间距离,更精确的对样品进行电镀。为了达到上述的发明目的,本实用新型采用了如下的技术方案一种变间距电镀槽套件,包括电镀槽箱体、靶材架和样品架,其特征在于所述的电镀槽箱体上设置...
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