技术编号:5274733
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微细加工,更进一步涉及一种联合应用电解和化学腐蚀,蚀刻空间和平面铜图形的方法。目前用于铜图形蚀刻的方法都是单纯的化学腐蚀,例如在印刷线路板的制作中用FeCl3溶液等来蚀刻铜。在钢模、硅片和砷化镓片等的蚀刻中,也是分别采用FeCl3、HNO3、HF、KOH或NaOH以及H3PO4-H2O2-H2O等对工件进行单纯的化学腐蚀,如文献“光化学腐蚀钢模工艺浅探”,《光学技术》一九九0年第六期第2页;“深槽腐蚀工艺的研究”,《半导体技术》一九八九年第四期第...
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