技术编号：5276985
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及带有黑膜的基质的生产方法，所述基质在基质如金属、塑料或陶瓷的表面上带有具有优异散热性能的黑膜，同时也是涉及到带有黑膜的基质。更特别地，本发明涉及在用于设备中的基质表面上构成发射率为0.8或更大的、具有优异散热性能的黑膜的方法，所述设备由于滑动或摩擦产生热或由于化学反应而产生/积累热，例如半导体设备、真空设备、旋转设备和热交换器，本发明也涉及到带有黑膜并表现出优异的散热性能的具有黑膜的基质。背景技术 随着近来高性能电子设备如半导体设备和显示器或高性...
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