技术编号:5282343
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,属于电化学冶金领域。 背景技术硅在自然界中主要以氧化物和硅酸盐的形式存在,国内外的硅生产都以硅石为原 料,碳为还原剂,用电炉在高温下进行熔炼,生产过程中熔炼温度达2000°C,能耗高,温室气 体排放量大,杂质含量高。自从剑桥大学的G. Z. Chen和D. J. Fray利用熔盐电解法成功将固态二氧化钛直接 电解还原制备出钛以来,利用熔盐电解法电解还原各种金属氧化物的研究成为了一大研究 热点。2003年,日本京都大学的伊藤靖彦教授提出直接熔盐电...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。