技术编号:5284147
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种,在保证次新离子膜强度不受影响前提下,通过严格控制酸浸液浓度、酸浸时间、酸浸温度和碱浸液浓度、碱浸时间等工艺条件,将沉积在次新离子膜内部的钙镁离子沉淀物溶解析出,从而使次新离子膜活性大部分得到恢复,重新投入生产应用后,离子膜电解槽阴极电流效率等技术经济指标较处理前大幅度提高,电解单元工艺电耗和生产成本大幅度降低,有效延长了离子交换膜的使用寿命。专利说明 [0001]本发明涉及离子膜电解制碱生产,尤其涉及受钙镁等金属离子严重污染后的离子...
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