技术编号:5284637
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电脑硬盘制造中的一种电化学机械抛光液,具体涉及一种用于硬盘 NiP的电化学机械抛光的抛光液。背景技术目前计算机磁头的飞行高度已降低到IOnm以下,并有进一步降低的趋势。磁头 与硬盘运行如此接近(纳米级间隙)要求磁盘表面超光滑(亚纳米级粗糙度),且无划痕、 凹坑等微观缺陷。如果硬盘表面波度较大或存在微凸起、微凹坑时,在高速运转的过程中, 会损坏磁头或磁盘表面的磁介质或导致信息读出失败。因此在磁盘的磁介质形成之前,必 须对磁盘基片进行抛光,降低基片的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。