技术编号:5286791
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体材料的电解抛光方法及装置,属于半导体材料加工领域。技术背景电解抛光(阳极光亮)技术早在1911年由俄国学者许宾塔斯基发明,它是利用阳极腐蚀法 使试样表面变得平滑光亮的一种方法。当电流密度足够时,试样表面由于电化学作用而发生 选择性溶解,材料表面微小凸出部分溶解到溶液中,从而变得光滑平整。该方法避免了机械 抛光时可能引起的残余应力和表层塑性变形,从而能更确切地显示材料的真实组织。电解抛 光广泛用于金属材料的抛光。高光洁度的金属材料样品更需...
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