技术编号:5286931
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种电解液和电解方法,尤其涉及一种能够电解抛 光元件以达到高光洁度的。 背景技术半导体及高洁净产业一直需要使用高精度调节器及相关流体控 制仪器,为达到高精度和高抗腐蚀能力,调节器或控制仪对于流道 内表面光洁度有非常高的要求,其内表面要经过电解来完成高光洁 度的需要,通常是采用目前常见的电解方法,虽然满足了通常的使 用需求,但其表面仍然容易产生加工的缺陷(如流纹和麻点),而用于衡量电解表面抗腐蚀指标的Cr/Fe (铬铁比)仍然偏低。人们试验多种方法...
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