技术编号:5290638
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于镀膜工艺,更具体的说本发明涉及电镀氧化铝的新工艺。背景技术 低红外反射率材料在国防以及其他工业部门有着特殊的用途,现有的低红外反射材料多为半导体材料,如三氧化铟、锑化铟等,它们是以重掺杂法制造而成,其中是以过剩载流子的浓度变化影响材料的反射率。这类材料一般在最小反射率波’长处的红外反射率为3~45%,反射率仍然偏高,而且材料制造工艺复杂,生产成本高。发明内容本发明的目的是克服现有技术中的不足,提供一种新型氧化铝镀膜的方法。该发明制造工艺简单,生产...
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