技术编号:5290972
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种活塞氧化装置,具体的说是一种活塞微弧氧化装置。背景技术微弧氧化正在越来越多地应用于各行各业。所谓微弧氧化是铝、镁、钛及其合金在电解液中依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,表面生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层,其特点是表面硬度高、良好的耐磨性和隔热性。传统的活塞微弧氧化技术中,是将活塞头部及环槽部位全部浸泡在氧化溶液中,再施以液体循环或搅拌。其存在的缺陷一是头部氧化膜厚度与环槽氧化膜厚度相差较大,膜层不均匀;二是氧化面积大,增加成本。·发明...
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