技术编号:5291581
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种电镀镍边缘屏蔽装置。背景技术现有技术中,靶材在电镀过程中,镀层边缘镍沉积速度一般为其他区域的2-3倍,为保持镀层厚度的均匀性,一般要将边缘部分切除4-5mm,这样不仅造成镀层材料的浪费,更重要的是造成了靶材的浪费,特别是对于In、Ga等贵重合 金靶材边料的切除损失非常大。实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种电镀镍边缘屏蔽装置。本实用新型内容是通过以下技术方案实现的本实用新型包括传动导电辊(I)、屏蔽器(3)、卡槽(4)、弹簧(...
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