技术编号:5292087
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是液晶显示、太阳能电池制造等行业中所需的ITO靶的制造,尤其涉及IT0靶材背面金属化的方法。背景技术在TFT-LCD、太阳能电池制作、微电子等行业大量使用透明导电薄膜(TC0)材料,其中ITO(氧化铟锡)是使用范围最广泛的TC0材料。在TC0薄膜制备过程中,IT0靶对薄膜的性能有重要影响。 IT0靶是由ITO靶材及与该靶材相联接并具有足够机械强度的金属背板构成。金属背板在磁控溅射中主要为靶材提供足够的机械强度,同时将靶材在溅射过程中产生的大量热...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。