技术编号:5292697
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种控制液体高度的装置,具体涉及一种控制电解槽中电解液高度的液位溢流装置。 背景技术电解槽在运行过程中,电解液的液位高度的控制是很严格的。液位的波动会造成 电流密度发生变化,从而影响到阴极铜的物理性能不均匀。而且因为液位的波动,还会影响 到阴极的电解面积发生变化,使得电解出来的阴极铜在外观上也不一致,影响到产品的表 观质量。 一般电解槽都是应用溢流堰的方法来控制液位的。这种方法简单,有效,而且液位 控制稳定。在电解过程中,为了控制电解槽在电解...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。