导电性金属氧化物薄膜除去方法以及装置的制作方法技术资料下载

技术编号:5293422

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本发明涉及将通过例如溅射蒸镀等形成在基材上的导电性金属氧化物薄膜以 能够再利用的状态除去的方法以及实施该方法的装置。背景技术例如,形成了ITO(作为铟和锡的氧化物,具有透明导电性的膜)的高性能玻璃 基板的光学性能(透射率等)和机械性能(平坦度等)良好,例如被用于平板显示器。 但是,由于该高性能玻璃基板的价格高,因此形成于其表面的ITO不满足品质管 理标准时,除去该ITO后再利用,从而试图降低成本。作为除去该ITO等导电性金属氧化物薄膜的方法,有通过机械摩擦...
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