技术编号:5293422
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及将通过例如溅射蒸镀等形成在基材上的导电性金属氧化物薄膜以 能够再利用的状态除去的方法以及实施该方法的装置。背景技术例如,形成了ITO(作为铟和锡的氧化物,具有透明导电性的膜)的高性能玻璃 基板的光学性能(透射率等)和机械性能(平坦度等)良好,例如被用于平板显示器。 但是,由于该高性能玻璃基板的价格高,因此形成于其表面的ITO不满足品质管 理标准时,除去该ITO后再利用,从而试图降低成本。作为除去该ITO等导电性金属氧化物薄膜的方法,有通过机械摩擦...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。