技术编号：5404962
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及在至少一部分地下处理区周围提供屏蔽层的方法 和系统。更具体地，本发明涉及一种使用硫在处理区周围形成屏蔽层 的方法。处理区可为已被原位热处理法处理过的处理区、正在被原位 热处理法处理的处理区或者将要被原位热处理法处理的处理区。背景技术原位法可用于处理地下地层。在一些原位法期间，可向地层加入 流体或在地层中产生流体。加入或产生的流体可能需要容纳于处理区 中以最小化或消除原位法对相邻区域的影响。在一些原位法期间，可 在全部或部分处理区周围形成屏蔽层...
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