技术编号：5435012
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及一种利用自动化控制方案调整真空泵的旋转速度的装置和方法。背景技术真空泵是从封闭空间排出气体以便在所述空间内产生低压环境的设备。它通常使用在半导体制造工艺中。例如，在化学气相沉积(CVD)工艺期间，可以使用一个或多个真空泵来排出处理腔室中的气体。作为另一个示例，可以使用真空泵来在接合于处理腔室与外界环境之间的预真空腔室(load lock chamber)中产生低压环境。在半导体制造工艺中以其功能分类的真空泵的示例包括但不限于，升压泵、预真空...
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