技术编号：5442707
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及保护人员和设备避免遭受由于真空泵发生故障产生的抛射体引起的 伤害和损坏。背景技术半导体晶片处理的沉积步骤使用多种前体(precursor)气体。这些气体在过程中 经常无效率地使用，并且任何没有使用的前体和过程中的副产品被真空泵泵出室外。当前体和过程中的副产品从室中泵出时，它们继续在真空系统内起反应和/或沉 积固体，特别是在真空泵的将气体从室中送走的机械阶段中。在泵送机构内固体的沉积减少了泵的转子和定子之间的公差，这能够导致泵在运 行时被卡住或阻止...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。