技术编号：5451995
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及精密泵设备，尤其涉及一种泵调节器，其用于精确控制从精密泵设备中分配出的流体量。背景技术 在许多场合，必须精确控制由泵设备分配的流体的流量和/或流率。例如，在半导体加工中，极其精确地控制涂敷到制成半导体器件的半导体晶片上的光致抗蚀剂等光化物质的涂敷量和涂敷速率是很重要的。在加工中，半导体晶片上的涂层通常需要在整个半导体晶片表面上具有一个平整度，其以埃为测量单位。如今的许多半导体加工工艺要求30个埃的数量级或更小。必须控制光致抗蚀剂等加工用化学物质涂...
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