技术编号：5492065
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及旋转式干式真空泵，具有反应生成气体难以流入半导体制造装置那样流过反应生成气体的装置所使用的、旋转式干式真空泵的动力部即封闭式马达内的构造。背景技术 在半导体制造工序中，成为问题的是在反应腔内混入油等杂质而污染半导体。特别是来自用于排出反应腔内的气体的真空泵的油的混入成为问题。因此，一直以来采用旋转式干式真空泵。作为旋转式干式真空泵，有螺旋式、罗茨式、涡旋式等。但是，这样的旋转式干式真空泵具有用于使转子旋转的旋转轴，为了支承该旋转轴而使用轴承。在该...
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