技术编号：5492195
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及可用于半导体制造装置、电子显微镜、表面分析装置、质量分析装置、粒子加速器、核融合实验装置等的真空泵，特别是关于对有必要进行大容量排气的真空泵可进行简单且廉价的对应的构造。背景技术以往，象在半导体制造工程中的干腐蚀或CVD的工艺那样，在高真空的工艺腔内进行处理的工程中，对工艺腔内的气体进行排气，作为形成一定的高真空度的装置，是使用例如图6所示的涡轮分子泵那样的真空泵。如同图所示，此涡轮分子泵P6在圆筒型的转子16的外壁面上设有多个叶片状的转子叶片1...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。