技术编号：5506609
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种抗反射涂层组合物，更具体地说，涉及一种通过光刻技术形成图案时可防止在抗蚀剂表面上入射光和衬底反射的光反射的抗反射涂层组合物，还涉及一种采用该抗反射涂层组合物形成图案的方法。 背景技术 在生产半导体元件领域中，广泛采用平版印刷术，其中，在诸如硅片的衬底上形成光致抗蚀剂涂层，在用光化光线进行选择性曝光后，进行显影处理以在衬底上形成抗蚀剂图案。近年来，已迅速地发开出在平版印刷术中加工尺寸的微型化处理方法，以实现大规模集成电路LSI领域中更高的集成度...
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