技术编号：5522348
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种气缸，特别涉及一种离子注入机用法拉第气缸。背景技术随着半导体集成电路技术的发展，集成度越来越高，电路中单元器件尺寸越来越小，对离子注入机的性能指标要求也越来越高。要达到现代离子注入机高可靠性、高生产效率、宽能量范围注入、以及良好的注片均匀性和重复性等要求，就必须配备高性能的离子源。在离子源的调试和整机的调试中，法拉第是束流测量最为普遍使用的手段，为了使离子源处在最佳工作状态，根据测量的束流大小，可以调节引出电极的角度和距离以及加/减速电压...
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