技术编号：5586157
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及用于流体系统的歧管，尤其涉及一种按标准形式设计的气体，所述分配系统在诸如用于制造半导体晶片的洁净室环境的高纯度流体系统和腐蚀性流体系统中使用。背景技术本申请要求1998年3月5日提交的U.S.在先申请No.60/076,871的利益。为制造半导体，工业上使用各种高纯度气体。这些气体由一个系统控制，该系统由高纯度阀、调节器、压力转换器、流量控制器和其它通过焊接和高纯度金属封装连接到一起的零件构成。在许多应用中不希望有这些连接件，因为它们会增加用...
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