技术编号：5587756
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种隔膜阀的改良，该隔膜阀适用于例如半导体制造装置，特别适用于排出来自半导体制造用的处理腔中气体的真空排气系统。背景技术 一般来说，向半导体制造设备或化学品制造设备等的处理腔内，供给富有化学反应性的气体。因此，对于处理腔的真空排气系统，要求其能够安全且高效地将这些富有反应性的气体排出。对于半导体制造设备的配管系统，一般来说，由向处理腔供给气体的气体供给系统、处理腔、真空排气系统、真空泵、隔膜阀等构成。对于真空泵，可以采用紧跟着处理腔设置的一级泵(...
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