技术编号：5633521
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及主动减震隔振，特别涉及一种主动减震隔振装置。 背景技术在大规模半导体集成电路生产设备中，如光刻机，要求许多重要部件如激光干涉仪测量系统和曝光系统的振动干扰尽可能小，使得重要的模块处于安静环境中。因为振动的干扰会传递给测量框架，使得测量框架产生不必要的运动，进而将会干扰工件台掩模台的激光干涉仪测量系统等。最终会影响工件台掩模台和镜面误差，导致套刻误差和特征线宽误差加大。因此，在光刻机这样的半导体设备中通常采用减震隔振装置将内部重要部件与基础框架等其...
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