技术编号：5650685
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体生产中超纯水供应设备，尤其涉及一种自动调节阀。 背景技术在半导体集成电路的制造工艺中，80%以上的工序都需要使用水进行清洗，在清 洗过程中，晶片及工件与水直接接触。并且在这些需使用水清洗的工序中，大约有一半以上 的工序在晶片与水接触后紧接着就进入高温过程，若此时水中含有杂质就会进入硅片而导 致集成电路器件性能下降、成品率降低。确切一点说，向生产线提供稳定优质的水将涉及到 企业的成本问题。为了解决因清洗而造成的污染问题，目前采用的办法是将...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。