步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统的制作方法技术资料下载

技术编号:5761496

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本发明涉及一种在光刻过程中用于硅片的超精密运动定位系统,该系统既可以用于扫描型光刻机,也可以用于步进型光刻机。背景技术 在集成电路芯片的生产过程中,芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一,该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨率和曝光效率极大的影响着集成电路芯片的特征线宽(分辨率)和生产率。而作为光刻机主要组成部分的硅片超精密运动定位系统的运动精度和工作效率,又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。光刻机...
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