技术编号：5766064
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及热处理，尤其涉及一种半导体热处理用的真空炉保温系统防氧化处理结构。背景技术热处理真空炉热场内通常设有加热器及保温层等，保温层起隔热作用，以保护真空炉热场的热量不易散失，并保护真空炉炉体不被高温融化。现有的热处理真空炉在加热过程中，炉内温度高达900摄氏度，在开炉时，炉内温度也将近200摄氏度，因此，开炉时，保温层在高温下易被氧化，不仅严重影响真空炉热场的保温效果，降低了热场使用寿命，而且需要频繁的更换保温材料，增加了成本，影响了生产。实用新型...
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