技术编号：5798323
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及平衡减震领域，尤其关于一种平衡减震台。 背景技术传统的光刻机工作台大多采用多层的导轨技术，平台的底部直接与减震系统连接。但是随着硅片直径从200mm增加到300mm，产率要 求的提高以及线宽和套刻精度的要求越来越高，直接带来的影响是工 件台运动行程的增加，运动速度的提高，和更高精度的要求，这样， 对减震系统的要求也越来越高。但是，要提高减震系统的能力成本较 高，同时难度也较大。因此，用于抵消应力的平衡块技术也随之发展 起来了。平衡块技术就是利用动...
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