技术编号：5811348
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及涂布性优异的防反射涂层用组合物以及使用了该组合物的图案形成方法。背景技术 在半导体元件的制造过程中一直应用如下光刻技术，即在硅片等基板上形成光致抗蚀膜，对其选择性地照射活性光线后，进行显影处理，在基板上形成抗蚀图案。近年来，在LSI中，为了得到更高的集成度，光刻过程中的加工线宽的微细化正在急速地发展。在发展这种加工线宽的微细化时，以光致抗蚀剂、防反射膜、曝光方法、曝光装置、显影剂、显影方法、显影装置等为代表，对光刻技术中的所有步骤、使用材料提出了...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。